在半導體工藝制程中，需要使用多種特殊氣體、大量的酸、堿等化學品以及有機溶劑和揮發(fā)性液體，這些氣體和化學品在半導體制造的不同工藝中使用會產(chǎn)生廢氣，這些廢氣如果沒有經(jīng)過廢氣處理設(shè)備很好的處理便進行排放，將造成嚴重的問題，不僅影響人們的身體健康，惡化大氣環(huán)境，造成環(huán)境污染的公害事件等，也會成為半導體制造中AMC污染的重要來源。

半導體制程工藝中產(chǎn)生的廢氣類別大概有：一般氣體廢氣、含毒性物質(zhì)的廢氣、有機廢氣和含有酸性/堿性物質(zhì)的廢氣。

對于含有酸性/堿性物質(zhì)的廢氣，半導體廠大多采用大型洗滌式中央廢氣處理系統(tǒng)進行處理。但由于半導體制造工作區(qū)域離中央廢氣處理系統(tǒng)距離較遠，因此部分酸性/堿性廢氣在輸送至中央廢氣處理系統(tǒng)前，常因氣體特性導致在管道中結(jié)晶或粉塵堆積，造成管道堵塞后導致氣體外泄，嚴重者甚至引發(fā)爆炸，危害現(xiàn)場工作人員的工作安全。

所以，在工作區(qū)域需配置適合制程氣體特性的就地廢氣處理設(shè)備進行就地處理，之后在排入中央處理系統(tǒng)，從而避免事故的發(fā)生，這就是為什么應就地配置廢氣處理設(shè)備的原因。